根据靶材的应用进行分类有多少种?主要有哪些靶材?

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根据靶材的应用进行划分,主要包括半导体领域应用靶材、记录介质用靶材、显示薄膜用靶材、光学靶材、超导靶材等.

半导体关联靶材

半导体领域应用靶材主要包括电极布线膜用靶材、阻挡膜用靶材、粘附膜用靶材、欧姆接触膜用靶材和电阻膜用靶材.

通常,纯Al和Al合金靶材用于集成电路和功耗较小的分立器件中Au靶材则主要用于功率晶体管和微波器件等阻挡膜用靶材主要是W,Mo等难熔金属和难熔金属硅化物粘附膜用靶材主要有Ti,W等电阻膜用靶材有NiCr,MoSi2,WSi等记录介质用靶材

记录介质用靶材分为磁记录介质用靶材、光记录介质用靶材两类.

磁记录介质用靶材主要有钴铬系合金和铁及铁的氧化物靶材;光记录介质常见的膜层有反射膜、记录膜、保护膜等.

反射膜用纯Al或Al合金靶材溅射沉积制成

记录膜用稀土2过渡金属靶材溅射沉积制成,如GdCo,GdFe,DyFe,GdTbFe,FeTbCo等保护膜则用Si靶在N2气氛中反应溅射沉积获得.

显示器件用靶材

透明导电膜包括以金属基、氧化物半导体基为主的各种材料.

目前,ITO靶作为制备高性能透明导电膜的最好材料,还没有其他材料可代替.

除ITO靶外,用于制备显示器件薄膜的靶材还包括:

制备电极布线膜用的难熔金属

制备电极布线膜和遮光薄膜的Al及Al合金靶材

制备电致发光薄膜发光层的ZnS-Mn靶材

制备电致发光薄膜绝缘层的Y2O3和BaTiO3等靶材.

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靶材按材质可分为:常规金属靶材,贵金属靶材,稀土金属靶材,半导体靶材,合金靶材,陶瓷靶材(氧化物氮化物),复合掺杂靶材等。
靶材按形状可分为:方靶、圆靶、圆片、圆台、矩形、片材、台阶片、管材、圆环、旋转靶材
应用方向可分为:半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、工具改性靶材、电子器件靶材等。

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