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一种扩散方阻异常硅片的处理工艺[发明专利]

2021-12-05 来源:一二三四网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种扩散方阻异常硅片的处理工艺专利类型:发明专利

发明人:郭飞,彭平,夏中高,顾鹏申请号:CN201710763100.3申请日:20170830公开号:CN107546117A公开日:20180105

摘要:本发明涉及硅太阳能电池制造领域,尤其涉及一种扩散方阻异常硅片的处理工艺,包括以下步骤:步骤1:筛选扩散后方阻≥110Ω的单晶硅片;步骤2:配置浓度5%‑20%的HF溶液去除表面的磷硅玻璃层,对单晶硅片酸洗5‑15min;步骤3:酸洗后通过自动化倒片机将步骤2的单晶硅片导入石英舟,依次按照沉积‑推进‑再沉积‑再推进四个步骤进行回炉扩散,该扩散方阻异常硅片的处理工艺大大提高了补扩成功率。

申请人:平煤隆基新能源科技有限公司

地址:452670 河南省许昌市襄城县产业集聚区(襄业路中段)

国籍:CN

代理机构:郑州科维专利代理有限公司

代理人:王年年

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